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Photomécanique 95 / Journées Photomécanique (1995; Cachan, Val-de-Marne)

Public ISBD Titre : Photomécanique 95 : étude du comportement des matériaux et des structures ; Journées organisées à l'école normale supérieure de Cachan, 14-16 mars 1995... Type de document : texte imprimé Auteurs : Journées Photomécanique (1995; Cachan, Val-de-Marne), Auteur; Yves Berthaud (1958-....), Editeur (scientifique); Groupement pour l'avancement des méthodes d'analyses des contraintes, Editeur (scientifique); Dimitri Paraskevas, Editeur (scientifique); Laboratoire de mécanique et technologie, Editeur (scientifique); Michel Taroni, Editeur (scientifique) Editeur : Paris : Eyrolles Année de publication : 1995 Importance : 324 p. Présentation : ill. Format : 24 cm ISBN/ISSN/EAN : 978-2-212-08852-6 Prix : 350 F Note générale : Textes des communications en anglais ou en français Notes bibliogr. Résumés Langues : Anglais (eng) Français (fre) Catégories : 620 Art de l'ingénieurs et activités connexes a:620.1 Mécanique de l'ingénieur (mécanique appliquée) et matériaux Mots-clés : Matériaux  Essais  Congrès  Photométrie  Congrès  Photoélasticité  Congrès  Plaques et coques élastiques  Essais  Congrès Index. décimale : 620.11 Photomécanique 95 [texte imprimé] : étude du comportement des matériaux et des structures ; Journées organisées à l'école normale supérieure de Cachan, 14-16 mars 1995... / Journées Photomécanique (1995; Cachan, Val-de-Marne), Auteur; Yves Berthaud (1958-....), Editeur (scientifique); Groupement pour l'avancement des méthodes d'analyses des contraintes, Editeur (scientifique); Dimitri Paraskevas, Editeur (scientifique); Laboratoire de mécanique et technologie, Editeur (scientifique); Michel Taroni, Editeur (scientifique) . - Paris : Eyrolles, 1995 . - 324 p. : ill. ; 24 cm. ISBN : 978-2-212-08852-6 : 350 F Textes des communications en anglais ou en français Notes bibliogr. Résumés Langues : Anglais (eng) Français (fre) Catégories : 620 Art de l'ingénieurs et activités connexes a:620.1 Mécanique de l'ingénieur (mécanique appliquée) et matériaux Mots-clés : Matériaux  Essais  Congrès  Photométrie  Congrès  Photoélasticité  Congrès  Plaques et coques élastiques  Essais  Congrès Index. décimale : 620.11

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Code-barres	Cote	Support	Localisation	Section	Disponibilité
103495	620.11 PHO	Livre	Library	Shelf	Disponible